Pärast aastatepikkust tootmispraktikatkloor-leelisetööstus, leitakse, et titaaniga kaetud titaanelektroodi peamine probleem on see, et toodetud kloorigaasi hapnikusisaldus on liiga kõrge, tavaliselt 2 protsenti -4 protsenti või isegi suurem.
Liigne hapnikusisaldus gaasilises kloordis vähendab kloorigaasi puhtust, mille tulemuseks on madal vooluefektiivsus, lüheneb anoodi tööiga, mõjutab kloorgaasi veeldamise efektiivsust ja ohustab teatud orgaanilise keemiatööstuste tootmisohutust. Kloorgaas ei sobi vinüülkloriidi tootmiseks oksükloorimise teel ega vasta suhteliselt puhta kloorigaasi toodete nõuetele.
Joonis 3-8 RuTi elektroodi kloori ja hapniku eraldumise polarisatsioonikõver
1-kloori evolutsiooni polarisatsioonikõver; 2-hapniku evolutsiooni polarisatsioonikõver
Kloori hapnikusisaldust mõjutavad paljud tegurid. Lisaks elektroodi materjalile on olemas ka soolvee kontsentratsioon, temperatuur, soolvee pH väärtus, diafragma adsorptsiooni kvaliteet, voolu kõikumine, voolutihedus, leelise kontsentratsioon jne. Need tegurid kuuluvad raku töötingimuste ja toimimise juurde. Tehnilise kontrolli juhtimise küsimused.
Ruteenium-titaankatte iseloom määrab kloori kõrge hapnikusisalduse. Soolvee elektrolüüsi ajal on küünte titaankatte kloori eraldumise potentsiaal madal ja ka hapniku eraldumise potentsiaal on madal. Küünte titaankatte hapniku kloori ülepotentsiaali väärtus ei erine palju, umbes 0,08 V. Sade, kloori hapnikusisaldus on kõrgem kui grafiidi anoodielementidel. Eriti lahjendatud soolvee lahuse elektrolüüsil ja elektrolüüsil kõrge leeliselisusega keskkonnas suureneb hapniku eraldumise hulk ja katte kahjustused kiirenevad.
Aktiivse katte hapnikueralduspotentsiaali parandamine ja kloori hapnikusisalduse vähendamine on muutunud oluliseks uurimisteemaks teadlastele üle kogu maailma.
Lisateabe saamiseks võtke meiega ühendust. Aitäh
Nicole
Ettevõte: Baoji Jimiyun Dynamic Co., Ltd
Cuntry: Hiina
Lisa: Baoti tee, Jintai, Baoji linn, Shaanxi, Hiina
Cel: pluss 86 13369210920
Gmail:nicole@jmyunti.com
Veebisait: www.jm-titanium.com
